SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam

• En rik, skummende rengjøringsmiddel med det ideelle pH-nivået på 5 fjerner effektivt sminke og urenheter uten å strippe huden.
  
• Kan brukes av alle hudtyper, også sensitiv hud
• Avansert rensekraft fjerner 92,69 % av fint støv - Ultra
• Fint natronpulver fester seg til talg og avfall i porene for effektivt å fjerne dem -
  renser overflaten og fuktighetsgivende midler til huden
• Centella Ampulle som beroliger og balanserer huden

Ønsker du en skånsom vannbasert rens? Da vil denne være midt i blinken for deg! 

Med pH level 5 vil den effektivt fjerne sminke og urenheter, uten å strippe huden for sine naturlige oljer. Hovedingrediensen er centella asiatica ekstrakt som både roer ned og tilfører fukt til en sensitiv hud.

Denne kan brukes av alle hudtyper, selv de med sensitiv hud eller svekket hudbarriere.

Hvordan bruke

Påfør en passende mengde på hendene sammen med litt vann. Skum meg opp ved å gni hendene sammen og forsiktig masser ansiktet før du renser av med vann.

Ingredienser: Aqua(Water), Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Centella Asiatica Extract, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Butylene Glycol

*Vær oppmerksom på at ingredienser kan endres over tid. For å se oppdatert ingrediensliste anbefaler vi å sjekke emballasjen